SEMICON Japan 2021出展

SEMICON Japan 2021が、2021年12月15日(水)~17日(金)、東京ビッグサイトにてハイブリッド開催され、伊藤暁彦研究室が現地でブース出展しました。

我々の技術に興味を持って下さり、お立ち寄りくださった方々、今後のコラボレーションに向けて話をお持ち帰り頂いた方々、ご指導くださった方々、誠にありがとうございました。

  • 小間番号:1124 (現地出展)
  • 出展者名:横浜国立大学 伊藤暁彦研究室
  • 出展内容:高分解能X線イメージング装置の迅速製造サイクルを実現する厚膜シンチレータに関する技術
横浜国立大学 伊藤暁彦研究室@SEMICON Japan 2021

AY2021-AW

2021年度秋学期がスタートしました。化学EPのカリキュラム変更と連動して、本年度から研究室配属が3年生の秋学期となり、新3年生5名が配属されました。メンバー増加に伴い8Fの実験室の一部を、学生居室に模様替えしました。

以下の研究プロジェクトがスタートしています (採択時期順)。

  • 環境情報研究院 共同研究推進プログラム 課題B (研究代表者: 横浜国大 伊藤暁彦)
  • JST SCORE大学推進型 (拠点都市環境整備型) イノベーションデザイン・プラットフォーム (IdP) GAPファンド (研究代表者: 横浜国大 松本昭源)
  • 科研費 学術変革領域研究(A)「超温度場材料創成学:巨大ポテンシャル勾配による原子配列制御が拓くネオ3Dプリント (領域代表者: 阪大 小泉雄一郎先生)」、「超温度場セラミックス材料創成科学 (計画研究代表者: JFCC 木村禎一先生)」
  • JST 戦略的創造研究推進事業 (CREST) 「劣化の学理に基づくセラミックスの信頼性革新 (研究代表者: 横浜国大 多々見純一先生)」

第19回次世代先端光科学研究会・極限的励起状態 第3回研究会 ★ 講演奨励賞

2021年10月8日(金)に、第19回次世代先端光科学研究会 及び 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第3回研究会がオンライン開催されました。伊藤研からは、三觜と藤江が参加し、研究成果発表を行いました。

研究発表を評価して頂き、藤江が講演奨励賞を受賞することができました。研究内容と受賞者の写真を添えた学府のリリースは、次の通りです:藤江

発表題目は「CVD法によるSrHfO3膜の合成とPLおよびシンチレーション特性評価」です。SrHfO3は、密度が高く、実効原子番号が大きいことから、放射線誘起蛍光体として期待されます。しかし、融点が高いことから、融液成長法による単結晶育成が困難でした。藤江さんは、SrHfO3厚膜蛍光体の化学気相析出 (CVD) 法による高速エピタキシャル成長に成功し、そのフォトルミネッセンス (PL) 特性やシンチレーション特性を報告しました。藤江さんの優れた研究成果およびプレゼンテーション能力が高く評価され、今回の受賞となりました。