第19回セラフェス ★ 奨励賞

第19回セラミックフェスタin神奈川が、2024年12月7日(土)、湘南工科大学で開催されました。セラミックフェスタin神奈川は、神奈川県下でセラミックス研究を推進する大学研究室間の学術交流を目的とした研究発表会です。

伊藤研究室からは、6名の学生 (今井、浦田、敷地、伏屋、佐野、成合) がポスター発表参加し、研究成果を現地でポスター発表してきました。研究発表を評価して頂き、成合が奨励賞を受賞することができました。研究内容と受賞者の写真を添えた学部のリリースは、次の通りです:成合

発表題目は、「β相およびε相酸化ガリウム膜のエピタキシャル成長」です。成合さんは、次世代のワイドバンドギャップ半導体材料として期待される酸化ガリウムの高速エピタキシャル成長について報告しました。成合さんの優れた発表内容およびプレゼンテーション能力が評価され、今回の受賞となりました

国際会議ICEAN2024

国際会議 ICEAN 2024 が、2024年11月4日(月)-8日(金)、豪州ニューカッスル NEX で開催されました。敷地と伊藤がポスター発表を行ってきました。

ICEAN 2024: 5th International Conference on Emerging Advanced Nanomaterials

国際会議ICEAN2024会場のNEX
ポスター発表中の敷地さん

また、The University of NewcastleのAjayan Vinu先生が主宰するGlobal Innovative Center for Advanced Nanomaterials (GICAN) を訪問してきました。

GICAN, UON

CEATEC 2024出展

CEATEC 2024が、2024年10月15日(火)~18日(金)、幕張メッセにて開催され、伊藤暁彦研究室の研究成果を横浜国立大学ブース内にて出展しました。

  • 小間番号:4H379
  • 出展者名:横浜国立大学
  • 出展内容:次世代固体照明や放射線撮像に資するセラミックス厚膜蛍光体の迅速製造に関する技術 (マイクロメートル厚の透明セラミックス結晶の迅速製造技術)
幕張メッセ
CEATEC 2024

第37回セラ協秋季シンポ ★ 優秀発表賞

第37回 日本セラミックス協会 秋季シンポジウムが、2024年9月10日(火)-12(木)、名古屋大学にて開催されました。伊藤研究室からは、敷地が口頭発表、浦田がポスター発表で現地参加しました。

研究発表を評価して頂き、敷地が特定セッション「クリスタルサイエンス」において優秀発表賞を受賞することができました。研究内容と受賞者の写真を添えた学府や大学のリリースは、次の通りです:敷地

発表題目は「Ce3+添加ルテチウムシリケート厚膜蛍光体の化学気相析出と発光特性評価」です。敷地さんは、Ce添加ルテチウムシリケートシンチレータ厚膜の気相析出および結晶多形の制御に成功し、各化合物相のシンチレーション特性を明らかにしました。敷地さんの優れた研究成果およびプレゼンテーション能力が高く評価され、今回の受賞となりました。

Japan-India YNU symposium 2023

Japan‐India YNU Symposium 2024が、2024年9月4日に横浜国立大学図書館メディアホールにて開催されました。伊藤研究室からは、秋山、上田、中山、藤村、伏屋、一場、今井、浦田、敷地、金本が研究成果をポスター発表しました。

2024年度エンセラ若手セミナー

2024年度エンジニアリングセラミックス若手セミナーが、2024年8月29日(木)~30日(金)、ハートピア熱海にて開催されました。伊藤研究室からは、中山、秋山、大井、金本、成合、浦田がポスター発表しました。

第81回CVD研究会 (Invited)

第81回CVD研究会が、2024年8月28日(水)に、はまきたプラザホテルにて開催されました。伊藤が参加し、「透明セラミックス厚膜の高速化学気相析出」に関する研究成果発表を行いました。

極限的励起状態 第18回研究会 ★ 講演奨励賞

応用物理学会 極限的励起状態の形成と量子エネルギー変換研究グループ 第15回研究会 兼 第31回次世代先端光科学研究会が、2024年6月19日(水)に、オンライン開催されました。

伊藤研究室からは、中山、一場、今井、敷地が参加して、研究成果をオンラインでポスター発表しました。研究発表を評価して頂き、敷地が講演奨励賞を受賞することができました。研究内容と受賞者の写真を添えた学府や学部のリリースは、次の通りです:敷地

発表題目は、「レーザーを援用した化学気相析出法によるCe3+添加ルテチウムシリケート膜の合成と発光特性評価」です。希土類シリケートは、X線や陽電子を用いた医療用断層撮影装置に使用されますが、結晶質のシリケート膜を気相成長させることは困難でした。敷地さんは、レーザーを援用した化学気相析出法を用いてCe添加ルテチウムシリケート膜を合成し、その蛍光特性を明らかにしました。敷地さんの優れた発表内容およびプレゼンテーション能力が評価され、今回の受賞となりました。